第132章 十倍精度光刻(第1/9 页)
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纪弘也很头疼，产能怎么挤？巧妇也难为无米之炊！
最关键的自然不是零部件这种东西，而是光刻机。
不说别的，在限制一次又一次的加码之后，国内现在能够进口的最先进的光刻机是1980di，曝光精度是38n的那款。
主要用于28n、14n制程，多重曝光的情况下，也能制造7n芯片。
更高级别的已经完全不能出货了。
哪怕是1980di，现在要买也只有理论上的可能。现有的都是存量，都是有数的——华为的先进工艺，就是用这款光刻机采用多重曝光工艺生产的。
等效5n，算是把这台光刻机压榨到了极限。
而国内生产已经投入商用的光刻机，是分辨率90n的沪上微电子的ssa600/20。