第162章 终于造出芯片(第2/6 页)
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目前由于光刻胶涂抹控制系统还在紧急研发中，所以光刻胶搅拌和涂抹，都暂时由人工完成。
混合均匀的光刻胶开始在旋转的硅片上均匀涂抹，从李树目测来看，这一过程做得很不错，完全达到了自动涂抹的过程。
在涂胶完成之后，员工安装好第一层掩模板，等着李树进行最后的指令操作。
掩模板是李树自行制造的，也形成了相关的技术手册，为批量量产做好了一切准备。
李树又确认了一遍无误之后按下了确定按钮。
镜头开始在掩膜板上方，按照图纸进行步进式重复动作，发出吱吱的机械声音。
无论是未来体量巨大的euv（极紫外光）光刻机，还是目前这样很小的可见光光刻机，工作原理其实没有多大变化，关键是技术难度的巨大升级。
所有人静静的等了三十分钟后，电脑屏幕上提示第一层光刻过程完成。
李树随即向电脑下达了显影的指令，随后开始进行第二层光刻，在第二层光刻开始前,掩模版又换了一块。
这时候李树的心情是紧张的，虽然他早就在超级模拟器里进行过大量光刻机工作过程的模拟，但在现实中总是有这样那样的问题。
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